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手套箱内磁控溅射仪(3靶溅射仪,DC/RF电源)
型号:
VTC-600-3HD-GB
产品概述:
VTC-600-3HD-GB是一款在手套箱内的3靶磁控溅射仪(手套箱内O2&H2O2<1PPm).磁控溅射仪配有3个2英寸溅射头,2个直流(DC)溅射电源和2个射频(RF)溅射电源,可用于同时溅射3个不同材质的靶材(在惰性气氛环境,水氧<1PPM)。此款设备设计主要用于要求锂电池固态电解质薄膜,同时也可以一次溅射多层薄膜,如铁电,合金,半导体,陶瓷,氧化物等等。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
手套箱(带有净化系统)

·腔体尺寸:1200 mm L x 740 mm W x 900 mm H材质不锈钢

·腔体前门设计为开启式,便于放置设备和样品。

·手套箱配有净化系统,可以快速去除手套箱内的O2H2O

·净化系统安装有自动再生系统(自动对吸氧和吸水材料进行净化)

·净化系统确保手套箱内的O2H2O含量低于1PPM

·2个不同过度仓,保证在不破坏手套箱气氛环境下,达到手套箱内外样品传递

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溅射镀膜仪

·溅射仪镶嵌在手套箱底部,采用一个铰链式法兰把手套箱腔体和溅射仪腔体隔离开

·32英寸磁控溅射头,安装在溅射仪顶部

 

·3个溅射电源安装在一空控制单元盒内,置于手套箱外。请根据实验要求选择溅射电源:

         1个或2个直流电源:功率500W,用于溅射金属靶材(图1

          1个或2个射频电源:功率300W,频率13.56MHz,用于溅射非导电性靶材。

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磁控溅射头

·32英寸磁控溅射头,带有水冷夹层

·靶材直径要求:25mm

·靶材厚度范围:0.1~5mm

·设备中包含1个不锈钢靶材和氧化铝靶材用于仪器测试

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真空腔体

·真空腔体尺寸:Φ300mm×300mm

·一个石英观察窗口,直径Φ100mm

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样品台

·样品台可转动(为了薄膜均匀)和加热,采用陶瓷加热片加热,表面覆盖铜板

·样品台尺寸:直径140mm,可放置4英寸基片

·转动速度:1-120rpm(可调)

·样品台加热温度:室温-500℃(2小时),控温精度正负1

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气体&流量控制

2个精密的气体质量流量计安装在设备上

  流速:0200ml/min&0-100ml/min,可在触摸屏面板上设置参数

一个进气阀安装在设备上,用于破坏真空

需要纯度为5NAr气,来运行溅射镀膜仪

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真空泵

设备中配有一个抽气速率为240L/min的双级旋片真空泵

因为溅射仪与手套箱连接,所以不需要分子泵系统,手套箱内部惰性气体的水氧含量<1PPM,远好于用分子泵的效果

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循环水冷机

一个数显温度可控的循环水冷机

     温度范围:5~35

     流量:16L/min

     泵压:0.1MPa

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可选

精密石英薄膜测后仪,可安装在溅射腔体内,实时检测薄膜厚度,显示精度为0.1Å

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电源要求

·单相220 VAC 50 / 60 Hz

·3000 W (包括真空泵和循环水冷机)


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